所謂的EUV技術(shù)就是把光刻機(jī)當(dāng)中最艱難的一個(gè)環(huán)節(jié)——造光的技術(shù)給克服了。

光刻機(jī)的原理其實(shí)就是投影，一塊小小的芯片上能夠放多少元器件，就是取決于光的波長(zhǎng)。

光在這個(gè)過(guò)程中起到的作用，就是用放大。

造一個(gè)放大的透光的模子，把設(shè)計(jì)好的集成電路形狀印在模子上，然后再通過(guò)光投影到硅片上，這樣就可以在硅片上制造小尺寸的電路圖了。