“如果我們剛才討論的那個(gè)‘間隔物’雙重成像技術(shù)真的能成功，配合這種級別的光刻機(jī)，攻堅(jiān)28nm工藝大有希望！

“這已經(jīng)是一條了不起的突破了！”

張煥驚訝。

他的目標(biāo)，是用這個(gè)多重曝光技術(shù)來彎道超車，搞定14nm的芯片。

這兩位老人，居然打算直接跳到前面，先把難度更低的28nm芯片，用多重曝光技術(shù)來完成。

這......也不是不行。